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真空镀膜设备主要参数o

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详细说明

    真空镀膜设备直径一般900~500mm之间,根据实际生产要求决定。

真空镀膜设备高度一般在1500~500mm之间,根据实际生产需求决定。

真空镀膜设备负载重量一般在1200kg~250kg之间,根据镀膜材料设计。

真空镀膜设备应用技术一般有ACA,PACVD,CARC,DMS,HIPIMS,LASER ARC,HIPIMS+,HYBRID,UBM等。

真空镀膜设备转轴托盘18-8之间,转轴悬挂可有可无。

真空镀膜设备涂层包括(TIN,AITIN,AITIN+W-C:N,AICRN,TISIN,AITIN+AL2O3,CRN,CR2N,CR+W-C:H,CRN+W-C:H+DLC,CR+W-C:H,CRN+W-C:H,TA-C,CR+W-C:H,TI/CR/ZR CARBON NITRIDES,METALLIZATION)

真空镀膜设备显微硬度7000-2000,厚度1-30,摩擦系数0-1,沉积温度范围80-600,工作温度350-1500。

东莞汇成真空设备科技有限公司http://www.suichenggd.cn真空应用的设备方面处在国内领先水平,汇成真空自主研发的真空镀膜设备实现了数字化、自动化,产品广泛应用于电子,光学产业,航空航天,建筑装潢,冶金,消费品等行业,产品出口世界多个国家。东莞市汇成真空科技有限公司----真空设备、真空镀膜设备http://www.hcvac.com生产制造

 
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